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語言:

UV激光曝光系統

掃描曝光方式特點:  
1.光束垂直高度<=0.23°; 
2.工作幅面一般100mm×100mm,可定制; 
3.光斑能量密度高; 
4.不需掩膜,可精確曝光三維圖形; 
5.可快速修改任意曝光圖形。 

掩膜曝光方式特點:

1.光束直徑可達φ100mm,可定制; 
2.光束發散角小,光束準直度可達到5μrad; 
3.可精確曝光三維圖形; 
4.對環境溫度要求不高。
應用領域:FPC、數碼產品、印刷等。
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